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「原子層堆積による成膜と薄膜評価技術」
【1分解説】光照射でナノ炭素材料の高純度な薄膜を簡便に形成【産総研公式】
【半導体教育10】製造編_成膜技術とは何か？CVD、ALD、PVDなど各種成膜工程をわかりやすく解説。
「原子層堆積装置による多種多様な材料・デバイスへの薄膜形成技術」
光照射でナノ炭素材料の高純度な薄膜を簡便に形成【産総研公式】
![[ScienceNews2016]やわらかい電子回路 有機薄膜エレクトロニクス（2016年5月25日配信）](https://i.ytimg.com/vi/IawsHPSuaTE/hq720.jpg?sqp=-oaymwEjCOgCEMoBSFryq4qpAxUIARUAAAAAGAElAADIQj0AgKJDeAE=&rs=AOn4CLDL_8t126iL2JyoQ7LDkbXsNsGLHQ)
[ScienceNews2016]やわらかい電子回路 有機薄膜エレクトロニクス（2016年5月25日配信）
魁半導体独自開発 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
2025年12月26日(金) 吉村洋文大阪府知事 囲み会見